簡要描述:在封閉腔室中,放置陽極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽極和陰極之間加載高壓,會發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會因此向四周擴散,在磁力的束縛下在一定范圍內沉積,最終在樣品表面形成一個均勻的鍍層。這個鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產率,從而改善掃描電鏡觀察效果。
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品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 能源,電子,電氣 |
為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像,它們需要有導電性,通過在樣品上形成導電層的鍍膜,用來抑制電荷,減少熱損傷,并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號。
磁控濺射儀的測試原理:在封閉腔室中,放置陽極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽極和陰極之間加載高壓,會發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會因此向四周擴散,在磁力的束縛下在一定范圍內沉積,最終在樣品表面形成一個均勻的鍍層。這個鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產率,從而改善掃描電鏡觀察效果。
平時使用時,最常見靶材的是金靶。正是這個原因,離子濺射儀也俗稱“噴金儀"。然而,為了獲得更細小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層,有時候也會使用其他靶材(比如鉻、鉑金、銅)。
產品概覽
磁控濺射儀的產品特點
樣品腔尺寸:圓柱形,直徑150mmx高度120mm;
樣品腔真空度:極限真空度:<0.1Pa,工作真空度:0-10Pa,恒壓控制;
樣品臺:可以裝載樣品8-15個,高度可調范圍為40mm;
靶材:Au靶為標配,Pt,Cu(選件)規(guī)格:直徑57mmx0.1mm厚;
濺射電流:微處理器控制,安全互鎖,可調,最大電流200mA,程序化數(shù)字控制;
濺射頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環(huán)繞暗區(qū)護罩;
真空計:皮拉尼真空計,測量范圍:0.01Pa-常壓;
真空泵:雙級直連式高速真空泵,抽速:66L/min,真空度:10-2Pa;
厚度監(jiān)控:使用高分辨厚度監(jiān)控儀,精確測定所鍍膜的厚度;(選配)
操作方式:觸摸屏控制,手動和自動模式可選,操作簡便;
機箱設計:長寬高40*35*50cm,堅固防腐蝕的箱體,帶有電源、電壓、電流、真空度等顯示。
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